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6387 サムコ株式会社







6387 　 サムコ株式会社　（ ７月・ １月決算。第３８９号・第４３８号 罫線））メルマガ「株主優待　配当利回り　から見る　株式投資」

（会社名をクリックすると元のページに戻る。）

ＪＡＳＤＡＱ　上場

　まず　↓メルマガ「 株主優待　配当利回り　から見る　株式投資」第３８９号配信時点↓

　昭和５４（１９７９）年、最先端の薄膜形成装置・加工装置等

半導体製造装置の製造・販売を通じ、

世界の研究者・技術者達に提供することを目的に

株式会社サムコインターナショナル研究所として　設立され、

平成１２（２００４）年　現社名へ　変更された企業です。

現在、光半導体向け薄膜形成・加工が主の　半導体等電子部品製造装置の研究開発型企業です。

　数々の装置の開発・販売は　以下のごとく　それぞれ　開始しています。

まず、昭和５５（１９８０）年には

国産初のプラズマＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）装置の開発・販売を開始しました。

その後も　平成２（１９９０）年には　液体ソースによるＳｉＯ２成膜用ＣＶＤ装置、

平成６（１９９４）年の　米国シンメトリックス社の技術を用いた　強誘電体成膜装置、

平成７（１９９５）年には　小型、汎用プラズマエッチング装置ＲＩＥ−１０ＮＲ、

平成８（１９９６）年の　高密度プラズマＩＣＰエッチング装置ＲＩＥ−１０１ｉＰ、

平成９（１９９７）年　小型高密度プラズマＩＣＰエッチング装置ＲＩＥ−２００ｉＰ、

平成１０（１９９８）年　小型、汎用プラズマＣＶＤ装置ＰＤ−２２０、

平成１１（１９９９）年　高密度プラズマＣＶＤ装置ＰＤ−１０１ｉＣＰ、

平成１２（２０００）年　量産型実装用プラズマ洗浄装置ＰＸＡ−２００Ｎ、

平成１７（２００５）年の　汎用研究試作用プラズマＣＶＤ装置ＰＤ−２２０３Ｌ (商品名: Ｃｌｕｓｔｅｒ　Ｌａｂ)、

平成１８（２００６）年には　ＭＥＭＳ用高速エッチング装置ＲＩＥ-８００iPB

と　次々　開発・販売を　開始しております。

　その他　研究開発・技術導入も積極的です。

まず　昭和６０（１９８５）年　米国マーチインスツルメンツ社（現ノードソン社）の製品販売を開始、

平成７（１９９５）年には　薄膜技術を使った特定フロン無公害化技術の基本技術の開発をしています。

平成９（１９９７）年には　キリンビール株式会社と共同で、

プラスチックボトルにＤＬＣ（ダイヤモンド・ライク・カーボン）膜を形成する技術を開発しています。

平成１５（２００３）年　ドイツのロバート・ボッシュ社から

シリコンの高速ディープエッチング技術を導入しています。

　営業所等拠点設置・Ｍ＆Ａ等にも　積極的です。

まず　昭和５９（１９８４）年の　東京営業所を開設しました。

昭和６２（１９８７）年　米国カリフォルニア州にオプトフィルムス研究所の開設、

平成２（１９９０）年　横浜市港北区に神奈川出張所の開設、

平成３（１９９１）年には　京都市伏見区に研究開発センターに、第二工場を開設しました。

平成５（１９９３）年には　茨城県土浦市につくば出張所を、 愛知県愛知郡長久手町には東海営業所を

それぞれ開設しました。

平成１０（１９９８）年　広島市安佐南区に広島出張所を開設しました。

平成１１（１９９９）年には　サムコエンジニアリング株式会社から　サービス部門の営業を譲受けし、

平成１２（２０００）年　英国ケンブリッジ大学内に研究所を、

平成１３（２００１）年には　台湾事務所、仙台市青葉区には仙台出張所を

それぞれ開設しています。

平成１４（２００２）年には　福岡県大野城市に　福岡出張所を

平成１６（２００４）年には　中国・上海市に　上海事務所を開設しました。

　株式は　平成１３（２００１）年５月　日本証券業協会に　店頭上場を果たしました。

　株主優待は　ありません。

配当は、権利確定基準日が　７月３１日で

年１５円／株　 予定　です

　現時点での　株式市場での　売買単位は　１００株単位です

尚、当銘柄は　ＭＭ銘柄です。

（メルマガ「 株主優待　配当利回り　から見る　株式投資」第３８９号配信時点）

　　 　　
コ
ー
ド		 銘柄名 上場
市場		 権利確定日 年間　配当（予定）／株
（メルマガ「株主優待　配当利回り　から見る　株式投資」紹介時）		 予定　株主優待
（メルマガ「株主優待　配当利回り　から見る　株式投資」掲載日現在）		 ●
参考●
発行日（メルマガ「株主優待　配当利回り　から見る　株式投資」）
紹介号（メルマガ「株主優待　配当利回り　から見る　株式投資」紹介時）
6387 ■ サムコ株式会社ＪＡＳＤＡＱ ７月３１日・ １月３１日 年15円/株(第389号時点) 2007 07 02(月)･ 2007 06 30(月)第３８９号・第４３８号


　以上が　↑メルマガ「 株主優待　配当利回り　から見る　株式投資」第３８９号配信時点↑

　続いて　↓メルマガ「 株主優待　配当利回り　から見る　株式投資」第４３８号配信時点↓

　１９７９（昭和５４）年　半導体製造装置の製造及び販売を目的に

株式会社サムコインターナショナル研究所として　設立され、

２００４（平成１６）年に　サムコ株式会社へ社名変更された、

光半導体向け薄膜形成・加工を主業とする

半導体等　電子部品製造装置の研究開発型企業です。

１９８０（昭和５５）年　国産初のプラズマＣＶＤ

（Chemical Vapor Deposition）装置の開発・販売を開始しました。

１９８５（昭和６０）年　米国マーチインスツルメンツ社

（現ノードソン社）の製品販売を　開始し、

１９８７（昭和６２）年　米国カリフォルニア州に

オプトフィルムス研究所を開設、

１９９０（平成２）年には　液体ソースによる

ＳｉＯ２成膜用ＣＶＤ装置の開発・販売を始めています。

この頃から　日本全国各地に　営業所等を　次々開設しました。

１９９４（平成６）年　米国シンメトリックス社の技術を用いた

強誘電体成膜装置　の製造・販売を開始し、

１９９５（平成７）年には　薄膜技術を使った

特定フロン無公害化技術の基本技術を開発したり、

小型汎用プラズマエッチング装置ＲＩＥ−１０ＮＲの

開発・販売を開始しました。

１９９６（平成８）年には　高密度プラズマＩＣＰエッチング装置

ＲＩＥ−１０１ｉＰの開発・販売を、

１９９７（平成９）年には　キリンビール株式会社と共同で

プラスチックボトルにＤＬＣ（ダイヤモンド・ライク・カーボン）膜を

形成する技術の開発の他、

小型高密度プラズマＩＣＰエッチング装置

ＲＩＥ−２００ｉＰの開発・販売を開始しています。

１９９８（平成１０）年　量産型高密度プラズマエッチング装置

ＲＩＥ−１０１ｉＰＣの開発・販売、

小型、汎用プラズマＣＶＤ装置ＰＤ−２２０の開発・販売を開始しました。

１９９９（平成１１）年　サムコエンジニアリング株式会社から

サービス部門の営業を譲受けたり、

高密度プラズマＣＶＤ装置ＰＤ−１０１ｉＣＰの開発・販売を開始しています。

２０００（平成１２）年には　英国ケンブリッジ大学内に研究所を開設したり、

量産型実装用プラズマ洗浄装置ＰＸＡ−２００Ｎの開発販売の開始を、

２００１（平成１３）年には　新竹市に　台湾事務所を開設し

台湾進出をした他、仙台出張所も　開設し、

２００３（平成１５）年　量産用プラズマＣＶＤ装置

ＰＤ−２２０ＬＣの開発・販売を開始した他、

ドイツのロバート・ボッシュ社より

シリコンの高速ディープエッチング技術を導入しました。

２００４（平成１６）年には　中国・上海市に　上海事務所を開設しました。

２００５（平成１７）年　汎用研究試作用プラズマＣＶＤ装置

ＰＤ−２２０３Ｌ (商品名: Ｃｌｕｓｔｅｒ　Ｌａｂ)の開発・販売を開始し、

２００６（平成１８）年には

ＭＥＭＳ用高速エッチング装置ＲＩＥ-８００iPBの開発・販売を開始し

拡大している企業です。

　株式は、平成１３（２００１）年５月、日本証券業協会に　店頭上場しました。

　株主優待は　ありません。

配当は、権利確定基準日が　７月３１日で

年１２．５〜１５円／株　 予定　です

　現時点での　株式市場での　売買単位は　１００株単位です



（メルマガ「 株主優待　配当利回り　から見る　株式投資」第４３８号配信時点）

　　 　　
コ
ー
ド		 銘柄名 上場
市場		 権利確定日 年間　配当（予定）／株
（メルマガ「株主優待　配当利回り　から見る　株式投資」紹介時）		 予定　株主優待
（メルマガ「株主優待　配当利回り　から見る　株式投資」掲載日現在）		 ●
参考●
発行日（メルマガ「株主優待　配当利回り　から見る　株式投資」）
紹介号（メルマガ「株主優待　配当利回り　から見る　株式投資」紹介時）
6387 ■ サムコ株式会社ＪＡＳＤＡＱ ７月３１日・ １月３１日 年15円/株→年12.5〜15円/株 2007 07 02(月)･ 2007 06 30(月)第３８９号・第４３８号


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