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6387 サムコ株式会社







6387
  サムコ株式会社 ( 7月 1月決算。第389号・第438号 罫線))メルマガ「株主優待 配当利回り から見る 株式投資」

(会社名をクリックすると元のページに戻る。)

JASDAQ 上場

 まず ↓メルマガ「 株主優待 配当利回り から見る 株式投資」第389号配信時点↓

 昭和54(1979)年、最先端の薄膜形成装置・加工装置等

半導体製造装置の製造・販売を通じ、

世界の研究者・技術者達に提供することを目的に

株式会社サムコインターナショナル研究所として 設立され、

平成12(2004)年 現社名へ 変更された企業です。

現在、光半導体向け薄膜形成・加工が主の 半導体等電子部品製造装置の研究開発型企業です。

 数々の装置の開発・販売は 以下のごとく それぞれ 開始しています。

まず、昭和55(1980)年には

国産初のプラズマCVD(Chemical Vapor Deposition)装置の開発・販売を開始しました。

その後も 平成2(1990)年には 液体ソースによるSiO2成膜用CVD装置、

平成6(1994)年の 米国シンメトリックス社の技術を用いた 強誘電体成膜装置、

平成7(1995)年には 小型、汎用プラズマエッチング装置RIE−10NR、

平成8(1996)年の 高密度プラズマICPエッチング装置RIE−101iP、

平成9(1997)年 小型高密度プラズマICPエッチング装置RIE−200iP、

平成10(1998)年 小型、汎用プラズマCVD装置PD−220、

平成11(1999)年 高密度プラズマCVD装置PD−101iCP、

平成12(2000)年 量産型実装用プラズマ洗浄装置PXA−200N、

平成17(2005)年の 汎用研究試作用プラズマCVD装置PD−2203L (商品名: Cluster Lab)、

平成18(2006)年には MEMS用高速エッチング装置RIE-800iPB

と 次々 開発・販売を 開始しております。

 その他 研究開発・技術導入も積極的です。

まず 昭和60(1985)年 米国マーチインスツルメンツ社(現ノードソン社)の製品販売を開始、

平成7(1995)年には 薄膜技術を使った特定フロン無公害化技術の基本技術の開発をしています。

平成9(1997)年には キリンビール株式会社と共同で、

プラスチックボトルにDLC(ダイヤモンド・ライク・カーボン)膜を形成する技術を開発しています。

平成15(2003)年 ドイツのロバート・ボッシュ社から

シリコンの高速ディープエッチング技術を導入しています。

 営業所等拠点設置・M&A等にも 積極的です。

まず 昭和59(1984)年の 東京営業所を開設しました。

昭和62(1987)年 米国カリフォルニア州にオプトフィルムス研究所の開設、

平成2(1990)年 横浜市港北区に神奈川出張所の開設、

平成3(1991)年には 京都市伏見区に研究開発センターに、第二工場を開設しました。

平成5(1993)年には 茨城県土浦市につくば出張所を、 愛知県愛知郡長久手町には東海営業所を

それぞれ開設しました。

平成10(1998)年 広島市安佐南区に広島出張所を開設しました。

平成11(1999)年には サムコエンジニアリング株式会社から サービス部門の営業を譲受けし、

平成12(2000)年 英国ケンブリッジ大学内に研究所を、

平成13(2001)年には 台湾事務所、仙台市青葉区には仙台出張所を

それぞれ開設しています。

平成14(2002)年には 福岡県大野城市に 福岡出張所を

平成16(2004)年には 中国・上海市に 上海事務所を開設しました。

 株式は 平成13(2001)年5月 日本証券業協会に 店頭上場を果たしました。

 株主優待は ありません。

配当は、権利確定基準日が 7月31日で

年15円/株  予定 です

 現時点での 株式市場での 売買単位は 100株単位です

尚、当銘柄は MM銘柄です。

(メルマガ「 株主優待 配当利回り から見る 株式投資」第389号配信時点)

     


銘柄名 上場
市場
権利確定日 年間 配当(予定)/株
(メルマガ「株主優待 配当利回り から見る 株式投資」紹介時)
予定 株主優待
(メルマガ「株主優待 配当利回り から見る 株式投資」掲載日現在)

参考●
発行日(メルマガ「株主優待 配当利回り から見る 株式投資」)
紹介号(メルマガ「株主優待 配当利回り から見る 株式投資」紹介時)
6387 サムコ株式会社JASDAQ 7月31日 1月31日 年15円/株(第389号時点) 2007 07 02(月)2007 06 30(月)第389号・第438号


 以上が ↑メルマガ「 株主優待 配当利回り から見る 株式投資」第389号配信時点↑

 続いて ↓メルマガ「 株主優待 配当利回り から見る 株式投資」第438号配信時点↓

 1979(昭和54)年 半導体製造装置の製造及び販売を目的に

株式会社サムコインターナショナル研究所として 設立され、

2004(平成16)年に サムコ株式会社へ社名変更された、

光半導体向け薄膜形成・加工を主業とする

半導体等 電子部品製造装置の研究開発型企業です。

1980(昭和55)年 国産初のプラズマCVD

(Chemical Vapor Deposition)装置の開発・販売を開始しました。

1985(昭和60)年 米国マーチインスツルメンツ社

(現ノードソン社)の製品販売を 開始し、

1987(昭和62)年 米国カリフォルニア州に

オプトフィルムス研究所を開設、

1990(平成2)年には 液体ソースによる

SiO2成膜用CVD装置の開発・販売を始めています。

この頃から 日本全国各地に 営業所等を 次々開設しました。

1994(平成6)年 米国シンメトリックス社の技術を用いた

強誘電体成膜装置 の製造・販売を開始し、

1995(平成7)年には 薄膜技術を使った

特定フロン無公害化技術の基本技術を開発したり、

小型汎用プラズマエッチング装置RIE−10NRの

開発・販売を開始しました。

1996(平成8)年には 高密度プラズマICPエッチング装置

RIE−101iPの開発・販売を、

1997(平成9)年には キリンビール株式会社と共同で

プラスチックボトルにDLC(ダイヤモンド・ライク・カーボン)膜を

形成する技術の開発の他、

小型高密度プラズマICPエッチング装置

RIE−200iPの開発・販売を開始しています。

1998(平成10)年 量産型高密度プラズマエッチング装置

RIE−101iPCの開発・販売、

小型、汎用プラズマCVD装置PD−220の開発・販売を開始しました。

1999(平成11)年 サムコエンジニアリング株式会社から

サービス部門の営業を譲受けたり、

高密度プラズマCVD装置PD−101iCPの開発・販売を開始しています。

2000(平成12)年には 英国ケンブリッジ大学内に研究所を開設したり、

量産型実装用プラズマ洗浄装置PXA−200Nの開発販売の開始を、

2001(平成13)年には 新竹市に 台湾事務所を開設し

台湾進出をした他、仙台出張所も 開設し、

2003(平成15)年 量産用プラズマCVD装置

PD−220LCの開発・販売を開始した他、

ドイツのロバート・ボッシュ社より

シリコンの高速ディープエッチング技術を導入しました。

2004(平成16)年には 中国・上海市に 上海事務所を開設しました。

2005(平成17)年 汎用研究試作用プラズマCVD装置

PD−2203L (商品名: Cluster Lab)の開発・販売を開始し、

2006(平成18)年には

MEMS用高速エッチング装置RIE-800iPBの開発・販売を開始し

拡大している企業です。

 株式は、平成13(2001)年5月、日本証券業協会に 店頭上場しました。

 株主優待は ありません。

配当は、権利確定基準日が 7月31日で

年12.5〜15円/株  予定 です

 現時点での 株式市場での 売買単位は 100株単位です



(メルマガ「 株主優待 配当利回り から見る 株式投資」第438号配信時点)

     


銘柄名 上場
市場
権利確定日 年間 配当(予定)/株
(メルマガ「株主優待 配当利回り から見る 株式投資」紹介時)
予定 株主優待
(メルマガ「株主優待 配当利回り から見る 株式投資」掲載日現在)

参考●
発行日(メルマガ「株主優待 配当利回り から見る 株式投資」)
紹介号(メルマガ「株主優待 配当利回り から見る 株式投資」紹介時)
6387 サムコ株式会社JASDAQ 7月31日 1月31日 年15円/株→年12.5〜15円/株 2007 07 02(月)2007 06 30(月)第389号・第438号


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